旋涂曲线（spincurve）是光刻胶重要参数之一，他给我们选择光刻胶提供了重要的指导意义。所以我们来介绍一下什么是旋涂曲线？怎样使用旋涂曲线？如何获得旋涂曲线？什么是光刻胶旋涂曲线？顾名思义，光刻胶旋涂曲线就是在旋涂工艺下，光刻胶的厚度与匀胶转速的关系曲线。一般来说，某一固定固含量的光刻胶在相同的匀胶条件下都会有一个相对稳定的膜厚值。这个厚度随着匀胶转速的提高而降低。下图是一个典型的光刻胶旋涂曲线：影响光刻胶旋涂曲线的因素主要有：光刻胶种类和固含量：一般来说，固含量越大，相...

纳米制造使用光刻工艺(193nm，EUV，EBL等)涉及广泛的材料、技术和相关的处理步骤，以便生产明确的纳米结构。光刻胶的光刻对比曲线是工艺优化常用的参数之一。光致抗蚀剂的对比度曲线是显影后剩余的抗蚀剂膜厚度，作为对数绘制的曝光剂量的函数[1]。测量方法:在本篇应用案例中，使用EBPG-5000+电子束工具以100千电子伏的速度在不同的曝光剂量下对负性抗蚀剂进行曝光，生成100×100μm正方形的阵列，每个正方形对应不同的曝光剂量。在显影步骤之后，使用FR-μ探针显微光谱仪工...

等离子处理中哪种频率效果好？中频？射频？微波？KHz，中频产生等离子体能量大，主要是物理作用；MHz，射频产生等离子体能量和密度居中,为物理和化学作用；GHz，微波产生等离子体能量小，密度高，主要为化学作用；40kHz、13.56MHz和2.45GHz等离子体激发频率运用：激发频率为40kHz的等离子体即超声等离子体清洗是以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯...

本篇介绍了使用I101钙钛矿前体油墨的钙钛矿太阳能电池制备过程，该油墨用于底部ITO/PEDOT：PSS阳极和顶部PC70BM/Ca/Al阴极。ITO/PEDOT：PSS/CH3NH3PbI3-xClx/PC70BM/Ca/Al详细步骤如下：1.基板清洁：清洁预图案化的ITO基板。将基板在1％的高温（70°C）中超声处理5分钟。在沸腾的去离子（DI）水中漂洗底物两次（转储冲洗），然后在IPA中进一步超声处理5分钟，后在沸腾的DI水中漂洗两次。使用压缩氮气干燥基材。2.PEDO...

UV固化工艺是光化学反应前沿的应用，通过一定强度的紫外光照射,瞬间固化油墨、涂料、胶等相关化学品。随着科技的发展，UV固化所涉及领域也更加广泛，应用于汽车、电子、通讯、航空航天、金属、玻璃及塑料等制品的制造上。凭籍其对产品品质的提高和优良的环境表现，以每年10%以上的速度替代传统固化工艺。UV照射可硬化材料中的光起始剂吸收紫外线光谱(波长200-400nm)中的某些特殊波长的光而产生断键情形,这些断键的物质再去撞击单体和预聚合体而产生连锁架桥反应,瞬间将此材料从液态变成固态。...

涂胶显影机具有可编程阀,它可以使单注射器试剂滴胶按照蚀刻,显影和清洗应用的要求重复进行,如冲洗（通常是去离子水或溶剂）,然后干燥（通常是氮气）等后的处理步骤。采用此序贯阀门技术的晶圆片和管道在*干燥的环境中开通和关闭处理过程。隔离和独立的给水器可处在静态的位置还可以盖内调节。还有可选择的动态线性或径向滴胶的特性。涂胶显影机加热位置都是贴在热板上，透过热传导的方式对晶圆进行加热，每个热板同时只有一个加热温度。若遇到温度改变也即晶圆需要经过不同的工艺温度的处理时，就会需要时间来做...

纳米压印机是一款专为实验室开发的即插即用，纤细轻巧的纳米压印工具，其能低成本且高效地实现高精度的纳米热压工艺。它兼具热压印和紫外压印两种功能，而且可以快速的实现真空环境下的压印。这个系统可以方便的根据不同需要进行配置，闲置时也易于收藏。它可以处理各种不同形状、格式以及直达100mm（4英寸）的模板和基片。该系统只需要手动装入和取出模板和基片，其余的操作都是自动化进行，同时附带软件还提供了详细的参数设置，让客户对压印过程实行全名的操控。我们这项前沿纳米压印技术优势在于：可快速复...