NXQ8000系列掩膜曝光机可在多种领域中应用
NXQ8000系列掩膜曝光机全面满足科学研究,工艺级生产等多领域的应用。*采用非接触式100%标定系统,对晶圆和掩膜没有伤害,大大提高间隙精度
非接触式掩膜对准机maskaligner适合各种电子元器件,包括半导体,LED,LD,MEMS,传感器等。
NXQ8000系列掩膜曝光机主要是用于光刻胶曝光。光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。
光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的部分变得容易溶解,经过显影后被溶解,只留下未受光照的部分形成图形而负胶却恰恰相反,经过曝光后,受到光照的部分会变得不易溶解,经过显影后,留下光照部分形成图形。负胶在光刻工艺上应用早,其工艺成本低、产量高,但由于它吸收显影液后会膨胀,导致其分辨率(即光刻工艺中所能开诚小图形》不如正胶,因此对于亚微米甚至更小尺寸的加工技术,主要使用正胶作为光刻胶。
NXQ8000系列掩膜曝光机的清洁
所有石英灯管在封装运输前都会经过精心的清洁步骤。如果小心处理,(例如:灯管主体没有指纹),当打开包装时即可使用。如果用双手直接接触灯管,则应用脱离子水或工业酒精稍稍浸湿纸巾,仔细擦拭灯管,再用干燥纸巾重新将灯管擦干。根据需要,还应定期清洁灯管及反射罩。尤其在当灯管表面沾有其它附着物时更应进行清洁。如果不能及时处理,将导致灯管过早失去透明性并会影响其工作效果。
以上便是今天关于NXQ8000系列掩膜曝光机可在多种领域中应用的全部分享了,希望对大家今后使用本设备能有帮助。