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详细介绍
FR-pRoVIS/NIR基础型膜厚仪(紫外/近红外-高分辨率)光谱范围:350-1000nm: Α)卤钨光源系统Tungsten Halogen light source全软件控制的光谱范围和辐照强度。 小型光谱仪光谱范围(350nm-1000nm),分辨精度可达3648像素,16位级A/D分辨精度;配有USB通讯接口; 光学连接器SMA 905,光谱仪功率:110VAC/230VAC – 60Hz/50Hz. 10mm厚度的氧化铝面板,每英寸(25mm)间距,配有M6 (or ¼”)口径钻孔,用以安装光学部件。 样品放置台,配有多点Z轴聚焦和X-Y轴移动调节。反射探针夹具调节范围(200mm – 200mm – 60mm),可在测试区域内精准调节。 Β) FR-Monitor膜厚测试软件系统, 可精确计算如下参数: 1)单一或堆积膜层的厚度; 2)静态或动态模式下,单一膜层的折射率;本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库,可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率,透射率和反射率的测量,还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱,一次使用授权,即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。 C)参考样片: a)经校准过的反射标准硅片; b)经校准过的带有SiO2/Si特征区域的样片; c)经校准过的带有Si3N4/SiO2/Si特征区域的样片; D)反射光学探针 系统内嵌6组透射光探针200μm, 1组反射光探针200μm; |
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