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Futurrex产品优势:
1、Futurrex光刻胶黏附性好,无需使用增粘剂(HMDS)
2、负性光刻胶常温下可保存3年
3、150度烘烤,缩短了烘烤时间
4、单次旋涂能够达到100um膜厚
5、显影速率快,100微米的膜厚,仅需6~8分钟
品牌 |
产地 |
型号 |
特性 |
应用 |
对生产力的影响 |
Futurrex |
美国 |
RD3 |
碱性水溶液 |
光胶图案显影 Futurrex临时粘层、 |
一种显影液可同时应用于正胶和负胶在去除PC3系列平坦化层时作为去除剂 |
RD6 |
|||||
Micro Resist |
德国 |
ma~D332S |
避免接触酸和氧化剂 |
用于半导体芯片或微纳结构制作 |
用于光刻胶的显影 |
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