匀胶旋涂仪M-SPIN

简要描述：匀胶旋涂仪M-SPIN 200是用于均匀涂覆和干燥晶圆片或衬底。该匀胶旋涂仪适用于直径大为8英寸的晶圆片，或大为6英寸 x 6英寸的衬底。它可使用分配臂全自动工作，分配移动托盘，可定义数量。该匀胶旋涂仪配备了顶盖的联锁机制，和可视化全图形触摸面板。M-Spin 200匀胶旋涂仪包含一个内置模块，该模块连接到柔性电缆，外接到一个19英寸外部控件上。

产品型号：M-SPIN 200
厂商性质：代理商
更新时间：2024-05-17
访问量：2047

产品咨询联系我们

产品分类

匀胶机/匀胶旋涂仪

ST20系列 M6系列 650系列 SPIN系列 OS系列 KW系列查看全部产品

详细介绍

匀胶旋涂仪M-SPIN200是用于均匀涂覆和干燥晶圆片或衬底。该匀胶旋涂仪适用于直径大为8英寸的晶圆片，或大为6英寸 x 6英寸的衬底。它可使用分配臂全自动工作，分配移动托盘，可定义数量。该匀胶旋涂仪配备了顶盖的联锁机制，和可视化全图形触摸面板。M-Spin 200匀胶旋涂仪包含一个内置模块，该模块连接到柔性电缆，外接到一个19英寸外部控件上。

匀胶旋涂仪M-SPIN200产品参数：

可处理衬底尺寸：直径大为8英寸的晶圆片，或大为6英寸 x 6英寸的衬底；

旋转速度：达9,000 rpm（以1 rpm步长可调）；

固定晶圆片或衬底的装置：真空托盘；

处理时间：（1-999秒，可在1秒内调整）；

加速度：1-5,000rmp/sec；

其他参数：20个程序段，每个40步

设备尺寸：约 480mmx 360mm x 416mm(不带盖子)

控制器尺寸：约 145mmx 100mm x 120mm

产品选配件：

适用各种尺寸大小的托盘

分配臂

泵

主营产品：

Laurell匀胶机

Harrick半岛全站手机客户端下载官网

Thetametrisis膜厚仪

Microxact探针台

ALD原子层沉积系统

TRION反应离子刻蚀机

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻机

Novascan半岛电子综合给查

Nilt纳米压印机

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加热板

Annealsys高温退火炉

Kinematic程序剪切仪

Laurell EDC系统，湿站系统

Wabash/Carver自动压片机

产品咨询

留言框

产品：
您的单位：
您的姓名：
联系电话：
常用邮箱：
省份：
详细地址：
补充说明：
验证码：

请输入计算结果（填写阿拉伯数字），如：三加四=7

匀胶旋涂仪M-SPIN

留言框

产品：

您的单位：

您的姓名：

联系电话：

常用邮箱：

省份：

详细地址：

补充说明：

验证码：