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原子层沉积

简要描述：占地面积小的桌面系统（< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺）
具有超快 MFC 的高温兼容快速脉冲 ALD 阀，用于集成惰性气体吹扫。
4 英寸圆形卡盘可定制，适用于较小尺寸或其他形状（11 毫米高）。
3 种有机金属前体和 2 种（最多 3 种）反反应物。
整个加热管线（从前体到腔室）。
高曝光（用于沟槽和多孔基板）和静态处理模式
全铝（半导体级）腔室 ‒ 范围高达 310°C

  • 产品型号：AT410
  • 厂商性质：代理商
  • 更新时间：2024-05-17
  • 访 问 量：756
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    • 占地面积小的桌面系统，兼容无尘室。

    • 占地面积小的桌面系统（< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺）

    • 具有超快 MFC 的高温兼容快速脉冲 ALD 阀，用于集成惰性气体吹扫。

    • 4 英寸圆形卡盘可定制，适用于较小尺寸或其他形状（11 毫米高）。

    • 3 种有机金属前体和 2 种（最多 3 种）反反应物。

    • 整个加热管线（从前体到腔室）。

    • 高曝光（用于沟槽和多孔基板）和静态处理模式

    • 全铝（半导体级）腔室 ‒ 范围高达 310°C

    • 7″ 触摸屏 PLC 控制器（无需 PC）

    • 包括终身软件升级

    • 1 年保修（包括零件）

    • AT610

    • 全铝（半导体级）腔室 ‒ 范围高达 310°C

    • 具有超快 MFC 的高温半导体级快速脉冲 ALD 阀，用于集成惰性气体吹扫。

    • 6″ 圆形卡盘（7″ 方形）可定制为更小的尺寸或其他形状（11 毫米高）。

    • 流线型腔体设计，腔体体积小

    • 3 种有机金属前体和 2 种（最多 3 种）反反应物。

      • 前体可以加热到 150°C。

    • 整个加热管线（从前体到腔室）。

    • 简单的系统维护和市场上的公用事业和前体使用

    • 高曝光（用于沟槽和多孔基板）和静态处理模式

    • 7″ 触摸屏 PLC 控制器（无需 PC）

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