NXQ掩膜对准曝光机

品牌：恩科优（N&Q）

产地：美国

恩科优光刻机分为半自动和全自动两大系列。其中，N&Q4000系列光刻机是以半自动系统为主。该系统*的操作性，超高的分辨率，均匀的光学系统，现代*接近式和接触式光刻及超高的性价比，使恩科优光刻系统已经被全国各地众多著名企业、研发中心、研究所和高校采用，并成为他们光刻系统的*；

二、技术参数：

1、芯片尺寸：5mm~150mm的圆片/方片和不规则碎片（支持对不规则碎片的特殊卡盘设计）；

2、曝光波长：350nm-450nm（其它波长可选配）；

3、汞灯功率：350W/500W（其它功率可选配）；

4、分辨率：优于0.5um；

5、曝光模式：支持接近式曝光，各种接触式（真空接触、软接触、硬接触等）曝光；

6、出射光强范围：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；

7、支持恒定光强或恒定功率模式；

8、曝光时间：0.1~999.9s；

9、对准精度：双高清彩色CCD +双高清彩色监视器，对准精度可达到0.4微米内；

10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜转换器)；

11、光强均匀性Uniformity：

<±1% over 2”区域；

<±2% over 4”区域；

<±3% over 6”区域；

12、双面光刻：具备背面红外对准（IR BSA）和光学背面对准（OBS BSA），双面对准精度≤2μm；

13、电源：高灵敏度光强可控电源。

可选型号：

NXQ400-6

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8

三、产品特点：

可选支持单面对准和双面对准设计；

高清晰彩色双CCD镜头采用的分裂视场显微镜镜头（基于无限远修正的CCD镜头设计）；双头高清全彩物镜（单视场或分裂视场可供用户灵活选择）；

高清彩色双显示屏；

全新气动轴承导轨设计，高精准，低磨损，无需售后维护的；

具有自动执行楔形误差补偿，并在找平后自动定位功能；

操作简易，具有支持多操作员同台使用的友好操作界面；

操控手柄调控模式的*设计；

采用LED穿透物镜照明技术，具有*对准亮度；

采用基于无限远修正的显微镜镜头架构；

抗衍射反射的高效光学光路设计；

带安全保护功能的温度和气流传感器；

全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度；

设备稳定性，耐用性超高；

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