WABASH平板硫化机的安装操作规程，一定要好好学习WABASH平板硫化机为实现好的性能、偏差而设计，WABASH所有的压力机具有用户友好操作界面及z大可靠性。具备大型钢板的压力机同样有超大台面，使偏差z小化，这样提高了部件的质量。与柱塞式液压缸并用，一体式液压系统保证了快速的压机闭合，慢速闭合段。当考虑需要短的循环时间、高模压及温控时，这种配置是理想的复合材料压成型应用设备。WABASH平板硫化机的安全操作规程1、所有模具放入平板时必须居中，送取模具要带好手套，防止烫伤。2...

NXQ8000系列掩膜曝光机可在多种领域中应用NXQ8000系列掩膜曝光机全面满足科学研究，工艺级生产等多领域的应用。*采用非接触式100%标定系统，对晶圆和掩膜没有伤害，大大提高间隙精度非接触式掩膜对准机maskaligner适合各种电子元器件，包括半导体，LED,LD,MEMS，传感器等。NXQ8000系列掩膜曝光机主要是用于光刻胶曝光。光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶...

美国CARVER热压机的操作检修和安装调试安全规程美国CARVER热压机的操作检修安全规程1、美国CARVER热压机操作人员上机前必须进行岗前培训，熟悉压机性能后，方可操作热压机2、美国CARVER热压机操作和检修时，必须时刻注意安全，严禁在没有安全保护情况下把手等异物放入热压机内。3、严禁热压机带病工作，运行时发现故障要及时排除后，方可继续使用。4、板件要放置在压机油缸中间位置，严禁偏压。如板件没有放满有效工作台面，要用同厚度的板件垫满，禁止悬空压。5、经常检查液压站、缸体...

德国Diener半岛全站手机客户端下载官网 等离子刻蚀物的处理一、德国Diener半岛全站手机客户端下载官网 金属表面去油污并清洗金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层，在进行溅射、油漆、粘合、键合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等离子处理来得到*洁净和无氧化层的表面。在这种情况下的等离子处理会产生以下效果：1.1灰化表面有机层表面会受到物理轰击和化学处理（氧下图）在真空和瞬时高温状态下，污染物部分蒸发污染物在高能量离子的冲击下被击碎并被真空泵抽出紫外辐射破坏污染物因为等离子处理每秒只能穿透几...

不断的突破Nanonex纳米压印光刻机的新技术Nanonex纳米压印光刻机工作原理和组成Nanonex纳米压印光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，不同光刻机的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图（即芯片）。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶...

促进MicroChem光刻胶研究开发和应用MicroChem光刻胶是芯片制造过程中的关键材料，芯片制造要根据具体的版图（物理设计，layout）设计出掩模板，然后通过光刻（光线通过掩模板，利用光刻胶对裸片衬底等产生影响）形成一层层的结构，后形成3D立体电路结构，从而产生Die（裸片）。工艺的发展，光刻机的发展，材料学的同步发展才能促进摩尔定律的发展。MicroChem光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻...

NOVASCAN半岛电子综合给查 样品应用化学改性NOVASCAN半岛电子综合给查 主要应用：石英/玻璃制品的表面清洗：液晶面板,等离子电视屏幕,彩色过滤片,光罩,棱镜,透镜,反射镜,平板电视等。微电子产品的表面清洗：微型马达轴,磁头驱动架,光盘,光电器件,手机摄像头,微型喇叭/受话器震膜,半导体硅片,掩膜版。精密集成电路的表面清洗：液晶显示器ITO,精密电路板,软性电路板接头,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金属基板的清洗,BGA基板与...